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1. Identificação
Tipo de ReferênciaArtigo em Revista Científica (Journal Article)
Siteplutao.sid.inpe.br
Código do Detentorisadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S
IdentificadorJ8LNKAN8RW/37PGAKH
Repositóriodpi.inpe.br/plutao@80/2010/06.29.20.12.33   (acesso restrito)
Última Atualização2011:03.01.11.56.55 (UTC) administrator
Repositório de Metadadosdpi.inpe.br/plutao@80/2010/06.29.20.12.34
Última Atualização dos Metadados2018:06.05.00.13.08 (UTC) administrator
Chave SecundáriaINPE--PRE/
DOI10.1016/j.surfcoat.2010.02.051
ISSN0257-8972
Rótulolattes: 3374288398505199 1 MirandaUedBalBelFer:2010:TrNaDi
Chave de CitaçãoMirandaUedBalBelFer:2010:TrNaDi
TítuloTreatment of nanocrystalline diamond films by nitrogen implantation using PIII processing
Ano2010
MêsJune
Data de Acesso21 maio 2024
Tipo SecundárioPRE PI
Número de Arquivos1
Tamanho777 KiB
2. Contextualização
Autor1 Miranda, Claudia Renata Borges
2 Ueda, Mario
3 Baldan, Mauricio Ribeiro
4 Beloto, Antonio Fernando
5 Ferreira, Neidenei Gomes
Identificador de Curriculo1
2 8JMKD3MGP5W/3C9JHSB
3 8JMKD3MGP5W/3C9JHTA
4 8JMKD3MGP5W/3C9JGJ8
5 8JMKD3MGP5W/3C9JHU3
Grupo1 LAS-CTE-INPE-MCT-BR
2 LAP-CTE-INPE-MCT-BR
3 LAS-CTE-INPE-MCT-BR
4 LAS-CTE-INPE-MCT-BR
5 LAS-CTE-INPE-MCT-BR
Afiliação1 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
2 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
3 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
4 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
5 Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE)
Endereço de e-Mail do Autor1 claudia@las.inpe.br
Endereço de e-Mailclaudia@las.inpe.br
RevistaSurface and Coatings Technology
Volume204
Número18-19
Páginas3034-3038
Nota SecundáriaB2_ASTRONOMIA_/_FÍSICA A1_ENGENHARIAS_II A2_ENGENHARIAS_III B1_ENGENHARIAS_IV A2_GEOCIÊNCIAS A1_INTERDISCIPLINAR A1_MATERIAIS B1_MEDICINA_II B2_QUÍMICA
Histórico (UTC)2010-06-30 00:22:21 :: lattes -> marciana :: 2010
2010-07-02 17:56:41 :: marciana -> administrator :: 2010
2010-11-17 21:31:29 :: administrator -> marciana :: 2010
2011-09-14 12:30:14 :: marciana -> administrator :: 2010
2012-09-11 02:32:20 :: administrator -> marciana :: 2010
2012-09-26 12:50:46 :: marciana -> administrator :: 2010
2018-06-05 00:13:08 :: administrator -> marciana :: 2010
3. Conteúdo e estrutura
É a matriz ou uma cópia?é a matriz
Estágio do Conteúdoconcluido
Transferível1
Tipo do ConteúdoExternal Contribution
Tipo de Versãopublisher
Palavras-ChaveIon implantation technology
Diamond
Electrochemical properties
ResumoThe influence of N2 Plasma Immersion Ion Implantation (PIII) on undoped nanocrystalline diamond (NCD) films grown on silicon substrate by CVD process using a hot filament reactor was systematically studied. Before and after the implantation, NCD films were investigated using scanning electron microscopy (SEM), high resolution X-ray diffraction (HRXRD) and Raman scattering spectroscopy. Significant changes in the film surface morphologies due to the plasma implantation treatment were observed. The NCD morphology changed from cauliflower-like to a smoother surface after the nitrogen-plasma immersion. The Raman spectra are similar for the three kind of electrodes before and after PIII of 15 and 30 min. Although a small difference among the ratios concerning the D and G Raman band intensities (ID/IG) may be observed that seems to increase after the plasma treatment, associated to the disorder increase caused by nitrogen incorporation in the sp2 phase. Electrochemical response also showed that implanted NCD films had their electrical conductivity improved while the electron transfer kinetics decreased for such NCD films after 15 and 30 min of N2 implantation.
ÁreaFISPLASMA
Arranjo 1urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAS > Treatment of nanocrystalline...
Arranjo 2urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção anterior à 2021 > LABAP > Treatment of nanocrystalline...
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4. Condições de acesso e uso
Idiomaen
Arquivo Alvomiranda.pdf
Grupo de Usuáriosadministrator
lattes
marciana
Grupo de Leitoresadministrator
marciana
Visibilidadeshown
Política de Arquivamentodenypublisher denyfinaldraft24
Permissão de Leituradeny from all and allow from 150.163
Permissão de Atualizaçãonão transferida
5. Fontes relacionadas
Unidades Imediatamente Superiores8JMKD3MGPCW/3ESR3H2
8JMKD3MGPCW/3ET2RFS
Lista de Itens Citandosid.inpe.br/bibdigital/2013/09.25.21.49 5
sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.14.56.32 2
sid.inpe.br/mtc-m21/2012/07.13.14.56.06 1
DivulgaçãoWEBSCI; PORTALCAPES.
Acervo Hospedeirodpi.inpe.br/plutao@80/2008/08.19.15.01
6. Notas
NotasThe Tenth International Workshop on Plasma-Based Ion Implantation and Deposition, São José dos Campos, SP, Brazil
07-11 September 2009 Edited by Joaquim J. Barroso and Mario Ueda
Campos Vaziosalternatejournal archivist callnumber copyholder copyright creatorhistory descriptionlevel format isbn lineage mark mirrorrepository nextedition orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress project rightsholder schedulinginformation secondarydate session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype typeofwork url
7. Controle da descrição
e-Mail (login)marciana
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